DiarioTi.com - el diario del profesional TI

Sábado 22 Feb 2020 | Año 19 | Edición 4946
Menu
letter


IBM desarrolla nuevos chips 3D

IBM ha anunciado el desarrollo de una nueva técnica de construcción de circuitos integrados (Integrated circuits-ICs) de 3 dimensiones que permitirá la mejora del rendimiento de los chips, su funcionalidad y su densidad. Esta nueva técnica es un paso esencial hacia la realización de chips de alto rendimiento de 3D.

Diario TI 03/12/02 16:41:00

Hoy día, los chips son bidimensionales: los transistores se sitúan en un plano y un sistema multicapa de cables es utilizado para conectar las diferentes partes del chip. Al abrir una tercera dimensión, se crean nuevas oportunidades para incrementar su rendimiento, su funcionalidad y su
densidad. Esto es posible reduciendo la longitud de los cables que conectan
los transistores e incrementado el ancho de banda entre la memoria y la
lógica; facilitando la integración de materiales heterogéneos, dispositivos
y señales en un mismo chip y añadiéndole más transitores.

“Tradicionalmente, la disminución del tamaño del transistor y de la
longitud de los cables permitía la producción de chips más rápidos y con
mayor potencia”, según Dr. John Warlaumont, director de Silicon Technology
IBM Research. “Sin embargo, cada vez es más difícil conseguir un mayor
rendimiento a escala tradicional porque las dimensiones de los transistores
están alcanzando sus limitaciones físicas. La nueva técnica de construcción
de circuitos integrados de 3 dimensiones desarrollada por IBM abre nuevas
oportunidades para el perfeccionamiento del rendimiento de los chips”.

A pesar de las ventajas del chip de 3D, éste no ha sido adoptado todavía
como una corriente tecnológica debido principalmente a los retos que supone
el inicio de la fabricación de este circuito. Por ejemplo, muchos grupos de
investigación toman la parte más baja del chip como el inicio de la
construcción de circuitos de 3D, en el que cada desarrollo de las capas es
realizado de forma secuencial. Desafortunadamente, la calidad de cada
nueva capa de silicio que es depositada en los dispositivos existentes
disminuye en relación con la capa de silicio original. Además, muchos de
los procesos requeridos para la construcción de cada capa subsecuencial
puede degradar al dispositivo, haciendo este acercamiento inadecuado para
la tecnología de alto rendimiento.

IBM presentará los detalles de esta nueva técnica en el documento
“Electrical Integrity of State-of-the-Art 0.13 um SOI CMOS Devices and
Circuits Transferred for Three-Dimensional (3D) Integrated Circuit (IC)
Fabrication” en el International Electron Devices Meeting(IEDM) que tendrá
lugar en San Francisco del 9 al 11 de diciembre.

  • Seleccione su país -+

    Diario TI utiliza una plataforma GeoIP que automáticamente intenta detectar el país desde donde usted se conecta, para así presentarle contenidos regionales. Sin embargo, si la detección automática no es posible, usted puede seleccionar manualmente su país.