El fosforeno consiste de átomos de fósforo y tiene una estructura similar al grafeno, aunque este último es una forma de carbono puro, de unos pocos átomos de espesor. Esta característica permite que los electrones se desplacen sobre su superficie a una velocidad mucho mayor que el silicio, componente fundamental de los actuales microprocesadores. Hasta ahora, la intención ha sido que los chips de grafeno sustituyan con el paso del tiempo al silicio, dando así paso a computadoras mucho más rápidas que las actuales.
Sin embargo, el grafeno tiene una limitación fundamental, según explica Peide Ye, de la Universidad Purdue de West Lafayette, Indiana, Estados Unidos, a la publicación New Scientist. Esta limitación, o “problema”, es que el grafeno es un conductor “demasiado eficaz” de la electricidad.
En un artículo publicado el 24 de enero, New Scientist explica que, por el contrario, el silicio es un semiconductor, que puede ser inducido a conducir la electricidad, o a bloquear su flujo. Esta capacidad que tiene el silicio de actuar como interruptor es la característica que define a los transistores, y que hace posible activar la lógica binaria que opera en el núcleo de un chip de computadora. “Precisamente por tal razón no creo que el grafeno pueda realmente competir con el silicio en circuitos integrados”, explicó Ye, que acto seguido explicó las características del fosforeno.
Según el científico, el fosforeno es ultra delgado, al igual que el grafeno, pero consiste de átomos de fósforo. Su característica más atractiva es que, al igual que el silicio, es un semiconductor natural. Ye explica la cadena de acontecimientos que le llevó a estudiar más detenidamente el fosforeno, y a contrastar sus características con el grafeno. En lo que indudablemente constituye un reconocimiento de alto nivel a Wikipedia, por tratarse de un científico, Ye explicó: “Cuando busqué sus características en Wikipedia, en 30 minutos llegué a la conclusión de que tenía todo el potencial”.
Siguiendo un procedimiento relativamente sencillo, que consiste en confeccionar una película de fosforeno, los científicos pudieron crear transistores rudimentarios basados en una capa única de fosforeno, integrándola con otros materiales bidimensionales, y silicio.
New Scientist menciona que de manera paralela al equipo de la Universidad Purdue, otros equipos científicos también están estudiando las aplicaciones del fosforeno, por ejemplo, la Universidad Fudan de Shanghai, China, y la Universidad de Maryland.
La publicación concluye señalando que está por verse si el fosforeno realmente podrá competir con el silicio. En particular, muchos dependerá de la capacidad de la industria de crear grandes capas de fosforeno, necesarias para su aplicación práctica.
Fuente: New Scientist
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