Intel Corporation anunció que ha producido lo que se cree son los primeros chips de SRAM (Static Random Access Memory) completamente funcionales utilizando la tecnología de proceso de 45 nm, su proceso de manufactura de semiconductores de alto volumen de la siguiente generación.
Alcanzar este hito significa que Intel está en vías de manufacturar chips con esta tecnología en el 2007 con obleas de 300 mm, y continúa el enfoque de la compañía en llevar al máximo los límites de la Ley de Moore, introduciendo una nueva generación de proceso cada dos años.
Ser el primero con producción de alto volumen con tecnología de proceso de 65 nm y el primero con un chip funcional de 45 nm destaca la posición de liderazgo de Intel en tecnología y manufactura de chips, señaló Bill Holt, vicepresidente y gerente general del Grupo de Tecnología y Manufactura de Intel.
